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SN-ZK-100D 100L大型真空等离子清洗机设备

所属栏目:实验室常用设备

发布时间:2024-05-09

关注度:47次

简单介绍:无论是金属、玻璃、陶瓷、塑料、橡胶,亦或是高分子、复合材料,都可用等离子体进行很好地表面处理。特别是一些不耐热和不耐溶剂的材料,用大型真空等离子清洗机设备进行表面更是有它的独到之处。

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规格参数:

型号

SN-ZK-100D

腔体容量

100L

腔体尺寸

400*H400*625mm

频率

40kHz

功率

1000W

13.56MHz

300W

电极层数

1-4层

气体通道

2-4通道MFC

真空度


真空计

1*10-2~1*105

气体接口

I.D4mm;O.D6mm

控制系列

10寸PLC触摸屏(手动/自动)

主机尺寸

800*850*1800mm

电源

380V/16A

附件

真空泵1台(干泵或油泵)、波纹管1条

气体

氧气、氮气、氩气、氢气或混合气体

产品详情:

SN-ZK-100D大型真空等离子清洗机设备功能特点

1、供气系统采用高精度流量计,可精确调节工作气体的流量;
2、多个气体通道设计,最大化地实现不同气体及混合气体的使用需求;
3、采用高稳定性的真空泵(干泵或油泵),可以实现废气的均衡排放;
4、具备灵活的工艺参数设定能力,为各行业提供不同等离子体生成条件,使清洗效果最优化;
5、可根据不同需求选择电极板的极性与间距,获得最合适的等离子体;
6、先进的电源匹配系统来调节负载阻抗,保证最佳的等离子体密度和可重复性。
应用场景   
电子行业:电子元器件灌装前活化;邦定板清洗
医疗行业:生物材料活化;体内和体外医疗器械表面处理
光学光电:镜片清洗;提高隐形眼镜浸润性;ITO面板清洁活化
电子行业:去除孔内胶渣、碳化物等;特氟隆活化;线路板表面清洁
半导体行业:硅片、晶圆光刻胶去除;引线焊接前清洁;芯片底部填充表面预处理
大型真空等离子清洗机设备等离子清洗设备广泛地应用于半导体、电子、光学光电、生物医疗、汽车、航空航天、科研及其他通用工业领域工件表面清洗、喷涂、改性、刻蚀等。

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